PSPK – 16 April 2026 | Perusahaan gas industri asal Prancis, Air Liquide, mengumumkan rencana investasi sebesar 200 juta euro (sekitar US$236 juta) di Jepang. Dana tersebut akan digunakan untuk membangun, memiliki, dan mengoperasikan dua unit produksi gas baru di prefektur Hiroshima.
Proyek ini merupakan bagian dari kesepakatan jangka panjang dengan salah satu pemimpin global dalam industri semikonduktor. Kedua pabrik diperkirakan mulai beroperasi pada akhir 2028 dan akan menyediakan volume besar nitrogen, oksigen, dan argon dengan tingkat kemurnian tinggi yang diperlukan dalam fabrikasi chip generasi berikutnya, terutama untuk aplikasi kecerdasan buatan.
- Nitrogen: kemurnian ≥ 99,999%
- Oksigen: kemurnian ≥ 99,999%
- Argon: kemurnian ≥ 99,999%
Dengan lebih dari satu abad beroperasi di Jepang, Air Liquide berharap investasi ini dapat memperkuat posisinya di sektor semikonduktor negara tersebut sekaligus mendukung peningkatan permintaan global akan chip canggih. Penyediaan gas berkualitas tinggi sangat krusial karena proses litografi dan pengolahan wafer memerlukan lingkungan bebas kontaminasi.
Langkah ini juga sejalan dengan upaya Jepang untuk memperkuat rantai pasokan semikonduktor domestik dan mengurangi ketergantungan pada impor. Kehadiran dua fasilitas tambahan di Hiroshima diperkirakan akan menambah kapasitas produksi regional, memberikan dukungan logistik yang lebih dekat kepada pabrik-pabrik chip di Jepang dan Asia.
Secara keseluruhan, investasi Air Liquide tidak hanya menambah kapasitas produksi gas industri, tetapi juga menjadi pendorong strategis bagi pengembangan ekosistem chip AI di Jepang, yang diproyeksikan akan menjadi salah satu pasar pertumbuhan tercepat dalam beberapa tahun mendatang.
